MPI TS200 200 mm Manual Probe System
For accurate and reliable DC/CV, RF and High Power measurements

Stacja pomiarowa MPI TS200 200 mm Manual Probe System

Manualna stacja pomiarowa MPI TS200 przeznaczona jest do charakteryzacji układów scalonych oraz pomiarów mających na celu modelowanie struktur półprzewodnikowych. Może być również wykorzystywana do wielu innych zadań powiązanych z testami na strukturach półprzewodnikowych takich jak: estymowanie żywotności układów scalonych, wykrywanie uszkodzeń, testowanie układów IC, testowanie układów MEMS oraz badania półprzewodnikowych przyrządów dużej mocy.

Podstawowe cechy stacji pomiarowej MPI TS200

• Rozmiar badanych podłoży: nie mniej niż 4 x 4 mm lub wafle o średnicy od 100 mm do 200 mm
• Unikalna technologia łożyska powietrznego umożliwia szybkie, jednostronne sterowanie obszarem pomiarowym
• Umożliwia w pełni funkcjonalne pomiary w dziedzinie DC/AC ze szczególnym uwzględnieniem sygnałów RF
• Solidna konstrukcja stacji umożliwia poprawną obsługę pola pomiarowego przy wykorzystaniu maksymalnie 10 pozycjonerów DC lub maksymalnie 4 pozycjonerów RF
• Prosta obsługa pozycjonowania stolika pomiarowego oraz położenia mikroskopu

Dostępna z wieloma opcjami umożliwiającymi wybór rodzaju stolika pomiarowego, manipulatorów, układów optycznych, mikroskopu oraz komory ciemnej.